Маска Shiseido UNO Skin Moisture 3D Mask предназначена для глубокого увлажнения, смягчения и восстановления жирной и комбинированной кожи. В основе косметической эссенции - натуральные компоненты, оказывающие на кожу положительное действие:
В составе также содержится специальный порошок, который контролирует выделение сального секрета и предотвращает появление жирного блеска.
Маска Shiseido UNO Skin Moisture 3D Mask помогает быстро увлажнить кожу, делает ее мягкой и эластичной, придает лицу свежий и сияющий вид.
Состав: вода, ДПГ, БГ, этанол, глицерин, ПЭГ-6, ПЭГ-32, лаурил бетаин, экстракт чая, ацетил гиалуронат натрия, гиалуронат натрия, сквалан, тиотаурин, тамариндовая камедь, диглицерин, триэтилгексаноин, карбомер, (акрилаты)/алкил акрилат (C10-30)) кроссполимер, изостеариновая кислота, гидроксид калия, ЭДТА-2Na, пиросульфит натрия, диоксид кремния, глюкоза, феноксиэтанол, метилпарабен, бензоат натрия, ароматизатор.
Способ применения: наложите маску на предварительно очищенную кожу лица, оставьте на 10 минут. Снимите маску и нанесите оставшуюся сыворотку на кожу.
Примечание: